Target sputtering magnesium oxide (MgO) adalah sumber keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Selama sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan material dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat sebagai lapisan oksida yang seragam. MgO termasuk golongan oksida logam alkali tanah dan dihargai karena sifat isolasi listrik serta stabilitas kimianya. Deskripsi produk ini juga menyebut indium, sehingga silakan hubungi AMI Scientific untuk detail perannya dalam produk ini.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset elektronika lapis tipis
- Lapisan pelindung dalam pengembangan perangkat optik dan display
- Lapisan penghalang terowongan dalam studi magnetic tunnel junction
- Lapisan buffer untuk pertumbuhan epitaksial lapisan tipis oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—