Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 24.961.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 24.961.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Magnesium Oxide (MgO) adalah cakram keramik padat yang terbuat dari magnesium oksida, oksida logam ionik dengan struktur kristal rock-salt. Target ini digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering, untuk mendeposisikan lapisan tipis MgO pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan isolasi dan dielektrik dalam riset perangkat elektronik lapisan tipis
  • Lapisan buffer atau seed untuk pertumbuhan epitaksial lapisan tipis oksida lainnya
  • Lapisan penghalang dan pelindung yang dikaji dalam riset optik dan optoelektronik
  • Studi material dasar tentang pertumbuhan lapisan tipis oksida dan sifat antarmuka

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—