Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 27.786.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 27.786.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering magnesium oxide (MgO) adalah sumber oksida keramik padat yang terbuat dari magnesium oksida, termasuk golongan oksida alkali tanah. Target ini digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana proses sputtering memindahkan material ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Target nanomaterial Nanografi disediakan dalam bentuk padat untuk deposisi film yang terkendali dalam lingkungan riset.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis isolator dan dielektrik dalam riset perangkat elektronik
  • Lapisan penghalang terowongan dalam studi magnetic tunnel junction
  • Lapisan buffer dan seed untuk pertumbuhan film oksida epitaksial
  • Lapisan pelindung dalam riset optik dan optoelektronik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—