Target sputtering Magnesium Oxide (MgO) adalah sumber keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis magnesium oksida. MgO termasuk golongan oksida logam alkali tanah, yang dikenal karena sifat isolasi listriknya, celah pita lebar, dan stabilitas kimianya. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan material yang kemudian mengendap pada substrat.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan dielektrik dan isolasi pada perangkat elektronik lapisan tipis
- Lapisan penghalang terowongan dalam riset magnetic tunnel junction
- Lapisan pelindung dan pelepas elektron sekunder dalam riset display
- Lapisan buffer atau seed untuk pertumbuhan lapisan tipis oksida kompleks
- Lapisan optik untuk studi lapisan tipis transparan dan terkait UV
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—