Target sputtering magnesium oxide (MgO) adalah cakram atau pelat keramik padat yang digunakan sebagai sumber material dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom MgO yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Sebagai keramik oksida, MgO termasuk golongan oksida logam alkali tanah dan dikenal karena sifat isolasi listrik serta stabilitas kimianya.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan dielektrik dan isolasi pada perangkat elektronik lapisan tipis
- Lapisan buffer dan seed untuk pertumbuhan film tipis oksida dalam riset material
- Lapisan pelindung dan optik pada kaca maupun substrat lainnya
- Pembuatan struktur uji dan prototipe di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—