Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target) dari Nanografi ini merupakan bahan sumber untuk deposisi lapisan tipis (thin film) dengan metode sputtering. Produk memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 4'' dan ketebalan 0,125'', dijual per keping.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Teknik ini cocok untuk berbagai bentuk dan ukuran substrat, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya variabel membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun justru memberi pengguna berpengalaman kendali tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MgO pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian sputtering sebagai bentuk pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG46
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MG46
—
—