Target sputtering Magnesium Oxide (MgO) adalah material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. MgO merupakan oksida logam dalam golongan material keramik dan dielektrik, dikenal karena sifat isolasi listriknya dan perilaku kimia yang stabil. Target jenis ini terkikis selama proses sputtering untuk mendeposisikan lapisan MgO pada substrat.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis dielektrik dan isolasi dalam riset perangkat elektronik
- Lapisan penyangga dan penghalang dalam studi lapisan tipis dan struktur multilapis
- Pengembangan lapisan optik untuk film oksida transparan
- Riset lapisan pelindung untuk rekayasa permukaan dan substrat
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—