Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 22.793.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 22.793.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Magnesium Oxide (MgO) merupakan lempeng keramik oksida padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom MgO terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. MgO termasuk golongan keramik oksida dan dikenal karena sifat isolasi listrik serta stabilitas kimianya.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan tipis dielektrik dan isolator dalam riset mikroelektronika
  • Lapisan penyangga atau seed untuk pertumbuhan epitaksial film oksida
  • Pengembangan lapisan optik untuk prototipe riset
  • Studi lapisan pelindung untuk permukaan fungsional

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—