Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 5'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,95%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Deposisi sputter merupakan teknik yang sudah teruji dan memberikan hasil berulang pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MgO pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Teknik analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Pekerjaan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG49
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 5''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MG49
—
—