Target sputtering magnesium oksida (magnesium oxide sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 6'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,95%. Target ini menjadi sumber material dalam proses deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Teknik sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran menggunakan berbagai jenis material. Hasilnya dapat diulang secara konsisten, dan prosesnya dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan etsa yang sangat anisotropik dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, seperti pada spektroskopi massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Peningkatan skala proses deposisi dari riset dan pengembangan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MG51
- Material: Magnesium Oksida (MgO)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MG51
—
—