Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets

Magnesium Oxide (MgO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 47.796.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 47.796.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering magnesium oxide (MgO) adalah sumber keramik oksida logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Sebagai keramik oksida anorganik, MgO dihargai karena sifat isolasi listrik dan stabilitas kimianya, sehingga menjadi bahan target yang umum digunakan dalam riset lapisan tipis oksida dan fabrikasi perangkat.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.

  • Deposisi lapisan tipis isolator dan dielektrik pada perangkat elektronik
  • Lapisan buffer dan seed untuk pertumbuhan lapisan tipis oksida dan semikonduktor
  • Lapisan pelindung dan penghalang pada film optik dan fungsional
  • Riset akademik dan industri pada proses lapisan tipis oksida

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—