Target sputtering mangan (Mn) adalah pelat atau cakram padat berdensitas tinggi dari logam mangan, dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD) seperti DC atau RF magnetron sputtering. Dalam proses ini, target dihujani ion berenergi tinggi sehingga atom mangan terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis di atas substrat. Mangan merupakan logam transisi, dan target jenis ini banyak digunakan dalam riset lapisan tipis. Judul produk juga menyebut indium, sehingga detail ikatan (bonding) atau backing indium sebaiknya dikonfirmasi kepada AMI Scientific sebelum memesan.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran harga, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset perangkat magnetik dan spintronik
- Fabrikasi lapisan paduan atau oksida yang mengandung mangan di lingkungan laboratorium
- Pengembangan lapisan elektroda dan pelapis fungsional
- Pengembangan dan optimasi proses dalam sistem PVD akademik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—