Target sputtering mangan (Mn) adalah sumber logam padat mangan yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Di bawah pemboman ion, atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Sebagai logam transisi, mangan banyak dipelajari karena sifat magnetik dan katalitiknya, sehingga target ini menjadi pilihan umum untuk riset lapisan tipis.
- Jumlah: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan tipis magnetik untuk studi perangkat perekaman dan spintronik
- Pengembangan lapisan fungsional untuk riset elektroda dan penyimpanan energi
- Studi katalitik lapisan tipis pada permukaan model
- Investigasi doping dan lapisan paduan dalam pengembangan material lapisan tipis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—