Target sputtering mangan (manganese sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 1'', dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material pada proses deposisi sputter, di mana atom-atom terkikis dari target lalu membentuk lapisan tipis (thin film) pada substrat seperti wafer silikon.
Teknik sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran menggunakan berbagai jenis material. Prosesnya memberikan hasil yang berulang secara konsisten dan dapat ditingkatkan skalanya, dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis mangan pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material yang tersputter dengan laju konstan diidentifikasi untuk mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu perubahan sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan akibat sputtering.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MN02
- Material: Mangan (Mn)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MN02
—
—