Target sputtering mangan (Mn) adalah material sumber padat yang terbuat dari logam mangan untuk proses physical vapor deposition (PVD). Dalam sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom-atomnya terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis logam. Sebagai logam transisi, mangan banyak dipelajari karena sifat magnetik dan elektroniknya, sehingga target ini umum digunakan di laboratorium riset material dan pengembangan lapisan tipis.
- Kuantitas: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis mengandung mangan untuk riset material magnetik
- Pengembangan perangkat spintronik dan multilapisan magnetik
- Studi elektroda lapisan tipis dan lapisan konduktif
- Riset lapisan fungsional di laboratorium akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—