Target sputtering mangan (Mn) adalah material sumber logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan film tipis yang mengandung mangan. Mangan merupakan logam transisi yang banyak dipelajari karena sifat magnetik dan katalitiknya. Target seperti ini umumnya digunakan di laboratorium riset dan proses pelapisan skala pilot, di mana komposisi film dan kondisi deposisi disesuaikan dengan setiap aplikasi.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset film tipis magnetik dan perangkat spintronik
- Pengembangan lapisan paduan dan multilayer melalui deposisi sputtering
- Studi katalisis dan kimia permukaan pada film tipis
- R&D akademik dan industri untuk lapisan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—