Target sputtering mangan (Mn) adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mengendapkan lapisan tipis mangan pada substrat. Sebagai logam transisi, mangan banyak dipelajari karena sifat magnetik dan elektroniknya, sehingga target ini menjadi pilihan material yang umum dalam riset lapisan tipis. Target jenis ini biasanya dipasang pada sistem sputtering, di mana bombardir ion melepaskan atom yang kemudian menempel pada substrat dan membentuk lapisan yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Riset lapisan tipis magnetik dan perangkat spintronik
- Studi lapisan multilapis logam dan lapisan paduan
- Lapisan fungsional pada substrat dalam proses PVD skala laboratorium
- Studi dasar pertumbuhan lapisan tipis dan magnetisme
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—