Target sputtering mangan (manganese sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,95%. Produk dipasok per satu keping sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter.
Sputtering menghasilkan lapisan tipis dengan mengikis material dari target lalu mengendapkannya pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat sedang sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, tetapi justru memberi keleluasaan kontrol yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis mangan pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching (etsa sputter) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MN08
- Material: Mangan (Mn)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MN08
—
—