Target sputtering mangan (Mn) adalah lempeng logam padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menyediakan atom mangan bagi pelapisan lapisan tipis. Sebagai material sputtering logam dalam rentang nanomaterial Nanografi, produk ini digunakan dalam proses skala laboratorium maupun pilot di mana pertumbuhan film terkontrol pada substrat diperlukan.
- Jumlah: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis magnetik yang mengandung mangan
- Pengembangan lapisan perangkat spintronik dan sensor magnetik
- Studi lapisan fungsional dan pelindung pada substrat logam atau kaca
- Fabrikasi film paduan dan film multilapis berbasis mangan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—