Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Molybdenum Disilicide (MoSi2) Sputtering Targets, indium

Molybdenum Disilicide (MoSi2) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 43.538.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 43.538.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Molybdenum disilicide (MoSi2) adalah senyawa intermetalik dari molibdenum dan silikon, dikenal karena stabilitas pada suhu tinggi dan ketahanannya terhadap oksidasi. Target sputtering ini dirancang untuk physical vapor deposition (PVD), di mana material target disputter untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Daftar produk ini juga menyebutkan indium, yang mungkin menunjukkan material pengikat atau backing; silakan konfirmasi konfigurasi target bersama tim kami.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis untuk riset pelapis tahan suhu tinggi dan oksidasi
  • Pengembangan lapisan berbasis silisida dalam studi perangkat elektronik dan semikonduktor
  • Riset material untuk pelapis pelindung pada lingkungan termal yang menuntut
  • Pekerjaan laboratorium akademik dan industri pada lapisan tipis logam dan intermetalik hasil sputtering

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—