Target sputtering molibdenum disilisida (molybdenum disilicide sputtering target, MoSi2) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 1'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%. Target ini berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis di atas substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses ini cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil sekaligus dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat, sehingga pengguna berpengalaman dapat mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis MoSi2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa tinggi ketika selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, misalnya spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam kadar sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO23
- Material: Molibdenum disilisida (MoSi2)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MO23
—
—