Target sputtering molibdenum disilisida (molybdenum disilicide sputtering target, MoSi2) dari Nanografi merupakan bahan sumber untuk membuat lapisan tipis MoSi2 melalui proses sputtering. Target ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,250'', serta tersedia dalam kemasan satu keping.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu dipindahkan ke permukaan substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini cocok untuk substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MoSi2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material dengan sputtering, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO24
- Material: Molibdenum Disilisida (MoSi2)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MO24
—
—