Molibdenum disilisida (MoSi2) adalah senyawa intermetalik yang terbentuk dari molibdenum dan silikon, termasuk dalam keluarga silisida refraktori dari material anorganik maju. Material ini dipasok sebagai target sputtering, yaitu lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis pada substrat. Kombinasi karakteristik logam dan keramiknya menjadikannya material yang menarik dalam riset pelapisan dan elektronik. Target sputtering umumnya digunakan ketika komposisi lapisan yang seragam dan dapat direproduksi diperlukan.
- Kuantitas: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan pelindung tahan oksidasi untuk riset komponen bersuhu tinggi
- Lapisan kontak dan gerbang silisida dalam studi fabrikasi perangkat mikroelektronik
- Lapisan penghalang difusi dalam riset metalisasi semikonduktor
- Lapisan pemanas dan resistif berbentuk lapisan tipis untuk prototipe laboratorium
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—