Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Molybdenum Disilicide (MoSi2) Sputtering Targets

Molybdenum Disilicide (MoSi2) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 26.586.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 26.586.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Molybdenum disilicide (MoSi2) adalah senyawa intermetalik silisida yang terbentuk dari molibdenum dan silikon. Material ini dikenal karena kestabilannya pada suhu tinggi dan ketahanannya terhadap oksidasi, sehingga sering menjadi objek riset dalam aplikasi suhu tinggi dan lapisan pelindung. Target sputtering ini merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis MoSi2 pada substrat.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan pelindung tahan oksidasi dan suhu tinggi
  • Studi lapisan kontak tipis dan lapisan penghalang difusi dalam mikroelektronika
  • Pengembangan material elemen pemanas dan lapisan struktural
  • Rekayasa permukaan dan pengembangan proses lapisan tipis di skala laboratorium

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—