Target sputtering molibdenum disilisida (molybdenum disilicide sputtering target, MoSi2) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95% dengan ukuran 4'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material pada sistem deposisi sputter: atom-atom dikikis dari permukaan target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis target, seperti pada spektroskopi massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO30
- Material: Molibdenum disilisida (MoSi2)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MO30
—
—