Target sputtering molibdenum disulfida (molybdenum disulfide sputtering target, MoS2) dari Nanografi ini berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Target ini menjadi bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses ketika material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset dan pengembangan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, tetapi memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Satuan pembelian adalah satu keping.
- Deposisi lapisan tipis MoS2 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material yang tersputter dengan laju konstan diidentifikasi dan diukur untuk menentukan komposisi serta pengotor dalam kadar sangat rendah.
- Kajian terkait pelapukan antariksa (space weathering), yaitu proses sputtering yang mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO39
- Material: Molibdenum Disulfida (MoS2)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MO39
—
—