Target sputtering molibdenum (Mo) adalah lempeng padat logam molibdenum yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom Mo yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan logam tipis. Material ini termasuk dalam golongan target sputtering logam dari material lapisan tipis tingkat lanjut dan banyak digunakan di laboratorium riset maupun proses pelapisan industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan elektroda dan interkoneksi dalam riset elektronika lapisan tipis
- Lapisan kontak belakang dalam pengembangan sel surya lapisan tipis
- Lapisan penghalang difusi dan adhesi dalam tumpukan lapisan tipis multilapis
- Studi lapisan pelindung dan fungsional untuk aplikasi optik dan permukaan
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—