Target sputtering molibdenum (molybdenum sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 6'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan atom dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses ini cocok untuk riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke produksi batch dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui pengikisan, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO10
- Material: Molibdenum (Mo)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MO10
—
—