Target sputtering molybdenum (Mo) merupakan lempengan padat dari logam transisi refraktori ini, dirancang untuk digunakan dalam sistem physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom Mo dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan logam tipis. Molybdenum dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, konduktivitas listrik yang baik, dan stabilitasnya pada suhu tinggi, sehingga menjadi bahan target yang umum dalam riset dan pengembangan film tipis.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan elektroda belakang pada riset sel surya film tipis, seperti perangkat berbasis CIGS
- Lapisan konduktif dan penghalang difusi dalam pengembangan mikroelektronika dan proses semikonduktor
- Elektroda dan lapisan kontak untuk prototipe layar panel datar dan sensor sentuh
- Lapisan keras dan tahan aus yang dikaji di laboratorium ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—