Target sputtering molibdenum oksida (molybdenum oxide sputtering target) MoO3 dari Nanografi ini tersedia per satu keping dengan kemurnian 99,9%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,125''. Produk ini merupakan varian indium dan berfungsi sebagai bahan sumber untuk membuat lapisan tipis MoO3 melalui proses sputtering.
Sputtering adalah teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis, yaitu material yang terkikis dari target diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi ketika selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis target, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO56
- Material: Molibdenum Oksida (MoO3)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Varian: Indium
- Kode produk: NG0ST01MO56
—
—