Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Molybdenum Oxide (MoO3) Sputtering Targets, indium

Molybdenum Oxide (MoO3) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 25.154.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 25.154.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Molibdenum oksida (MoO3) adalah oksida logam anorganik, dan produk ini disediakan sebagai target sputtering. Target sputtering merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Judul produk juga menyebut indium, sehingga detail backing atau bonding sebaiknya dikonfirmasi kepada AMI Scientific.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset deposisi lapisan tipis untuk prototipe perangkat elektrokromik dan optoelektronik
  • Pengembangan lapisan oksida transpor lubang atau lapisan antarmuka pada elektronik organik dan perovskit
  • Pembuatan lapisan oksida logam untuk studi sensor gas
  • Riset permukaan dan katalisis yang membutuhkan film molibdenum oksida terkontrol

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—