Target sputtering molibdenum oksida (MoO3) adalah material sumber padat untuk deposisi sputtering, dibuat dari molibdenum trioksida, sebuah oksida logam transisi. Material ini digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis di atas substrat untuk keperluan riset dan pengembangan. Molibdenum oksida banyak dipelajari karena perilaku redoksnya serta sifat elektronik dan optiknya, sehingga menjadi material yang umum dalam riset lapisan tipis dan perangkat.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset perangkat optoelektronik dan elektronik
- Lapisan injeksi hole atau transpor muatan dalam studi perangkat organik dan perovskit
- Pengembangan lapisan elektrokromik dan kaca pintar (smart window)
- Fabrikasi film untuk sensor gas dan studi permukaan
- Riset katalisis dan kimia permukaan pada lapisan tipis oksida
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—