Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Molybdenum Oxide (MoO3) Sputtering Targets

Molybdenum Oxide (MoO3) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 19.271.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 19.271.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Molibdenum oksida (MoO3) adalah oksida logam transisi anorganik yang termasuk dalam golongan keramik oksida fungsional. Target sputtering ini merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi lapisan tipis molibdenum oksida pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan. Target sputtering dinilai mampu menghasilkan lapisan yang seragam dan dapat direproduksi dalam proses vakum terkendali.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset deposisi lapisan tipis untuk perangkat elektronik dan optoelektronik
  • Pengembangan lapisan transpor lubang dan lapisan antarmuka dalam studi sel surya organik dan perovskite
  • Pembuatan lapisan tipis untuk riset sensor gas dan perangkat elektrokromik
  • Studi permukaan dan pelapisan di laboratorium ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—