Target sputtering molibdenum oksida (molybdenum oxide sputtering target, MoO3) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Target ini berfungsi sebagai sumber material dalam sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan metode pelapisan tipis yang sudah teruji untuk beragam material dan substrat dengan berbagai bentuk maupun ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten, serta dapat ditingkatkan dari proyek riset skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya variabel membuat sputtering cukup kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis MoO3 pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material dengan mengikis target, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari tahap riset dan pengembangan hingga produksi area menengah dan besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO54
- Material: Molibdenum Oksida (MoO3)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01MO54
—
—