Target sputtering molibdenum oksida (molybdenum oxide sputtering target, MoO3) dari Nanografi ini berukuran 4'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,9%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan material dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan metode yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten dan dapat ditingkatkan dari skala riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur membuat deposisi sputter tergolong kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan. Setiap pemesanan berisi satu keping.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon dengan metode sputtering.
- Sputter etching untuk kebutuhan anisotropi etsa yang tinggi ketika selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui sputtering, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Proyek riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01MO55
- Material: Molibdenum oksida (MoO3)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01MO55
—
—