Target sputtering nikel kromium (nickel chromium sputtering target) Ni-Cr dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,9%. Produk ini menjadi bahan sumber pada sistem deposisi sputter untuk menumbuhkan lapisan tipis (thin film) di atas substrat dengan beragam bentuk dan ukuran.
Deposisi sputter merupakan teknik yang sudah teruji dan hasilnya dapat diulang. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Selain untuk deposisi, target sputtering juga dimanfaatkan dalam etsa sputter (sputter etching) yang menuntut anisotropi tinggi, serta dalam analisis komposisi material.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kegiatan riset dan pengembangan yang dapat ditingkatkan ke batch produksi area menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI39
- Material: Nikel Kromium (Ni-Cr)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01NI39
—
—