Target sputtering nikel kromium (nickel chromium sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang, sehingga proses yang dikembangkan pada skala riset dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau pada substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis nikel kromium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI40
- Material: Nikel Kromium (Ni-Cr)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—