Target sputtering nickel chromium (Ni-Cr) adalah sumber paduan padat dari nikel dan kromium, yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) seperti magnetron sputtering. Ni-Cr merupakan golongan paduan logam yang dikenal memiliki ketahanan korosi dan perilaku kelistrikan yang stabil. Selama proses sputtering, target dibombardir ion berenergi tinggi sehingga atom-atomnya terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Resistor lapisan tipis dan lapisan resistif dalam riset elektronik
- Pelapisan logam tahan korosi pada substrat uji
- Lapisan perekat atau penyangga dalam tumpukan lapisan tipis multilapis
- Studi pelapisan logam dekoratif dan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—