Target sputtering Nickel Chromium (Ni-Cr) adalah target paduan logam yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Paduan nikel-kromium termasuk golongan paduan rekayasa yang dikenal karena ketahanan korosinya, perilaku listrik yang stabil, dan daya lekat yang baik pada berbagai substrat. Pada proses sputtering, material target dibombardir ion sehingga atomnya terlepas dan terdeposisi ke substrat sebagai lapisan yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan resistor lapisan tipis dalam riset komponen elektronik
- Lapisan perekat atau penyangga pada tumpukan lapisan tipis multilapis
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada sampel laboratorium
- Studi metalisasi untuk pengembangan mikroelektronika dan sensor
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—