Target sputtering nikel kromium (nickel chromium sputtering target) ini merupakan bahan sumber untuk membuat lapisan tipis Ni-Cr melalui proses sputtering. Produk memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 6'' dan ketebalan 0,125'', serta tersedia dalam kemasan satu buah.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang berulang, dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis nikel kromium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan mengikis material target, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Peningkatan skala proses sputtering dari riset dan pengembangan ke batch produksi area menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI45
- Material: Nikel Kromium (Ni-Cr)
- Ukuran: 6''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01NI45
—
—