Target sputtering nickel-iron (Ni-Fe) adalah sumber logam paduan padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis nickel-iron. Sebagai bahan sumber lapisan tipis berbasis paduan, target ini dipasang pada sistem sputtering, di mana ion berenergi tinggi mengikis permukaan target dan mengendapkan material ke substrat.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset lapisan tipis magnetik untuk media perekaman dan perangkat spintronik
- Pengembangan lapisan pelindung magnetik lunak untuk sensor magnetik dan MEMS
- Studi lapisan dasar (seed) atau lapisan perekat dalam riset mikroelektronika dan interkoneksi
- Investigasi pelapisan untuk perisai elektromagnetik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—