Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Targets

Nickel Iron (Ni-Fe) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 10.176.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 10.176.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering nickel iron (Ni-Fe) merupakan sumber padat paduan nikel-besi yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menumbuk permukaan target dan melepaskan atom paduan yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis yang seragam. Ni-Fe merupakan paduan logam magnetik lunak, golongan material yang banyak dipelajari karena respons magnetiknya, sehingga target ini umum dipilih untuk riset film tipis.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Film tipis magnetik lunak untuk riset sensor dan perangkat magnetik
  • Studi lapisan perekaman magnetik dan spintronik
  • Lapisan seed atau adhesi dalam metalisasi film tipis
  • Studi pelapisan untuk fabrikasi mikroelektronika dan MEMS

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—