Target sputtering nikel besi (nickel iron sputtering target, Ni-Fe) dari Nanografi ini berukuran 4'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,5%. Target ini berfungsi sebagai bahan sumber dalam deposisi sputter, yaitu proses pengikisan atom dari target yang kemudian mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Metode sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
Selain deposisi lapisan, sputtering juga dimanfaatkan untuk etsa sputter dan teknik analisis yang mengikis material sampel dengan laju terkendali.
- Deposisi lapisan tipis nikel besi pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana sampel di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI58
- Material: Nikel Besi (Ni-Fe)
- Ukuran: 4''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01NI58
—
—