Target sputtering Nickel (Ni) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom nikel yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Nikel adalah logam transisi yang dihargai karena sifat magnetik, ketahanan korosi, dan katalitiknya, sehingga targetnya banyak dipilih dalam riset lapisan tipis.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan benih dan lapisan perekat nikel dalam riset mikroelektronika
- Lapisan tipis magnetik untuk studi penyimpanan data dan spintronika
- Lapisan pelindung korosi pada substrat logam dan kaca
- Pembuatan lapisan elektroda dan katalis untuk riset elektrokimia
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—