Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel (Ni) Sputtering Targets

Nickel (Ni) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 7.118.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 7.118.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering nikel (Ni) adalah material sumber padat berbentuk logam yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis nikel pada substrat. Sebagai logam transisi, nikel banyak dipelajari karena sifat magnetik, katalitik, dan ketahanan korosinya. Nanografi menawarkan target ini untuk proses lapisan tipis skala laboratorium.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis magnetik untuk riset spintronik dan perekaman
  • Lapisan elektroda dan kontak dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
  • Lapisan seed untuk studi elektroplating lanjutan
  • Riset lapisan pelindung anti korosi
  • Sistem model lapisan tipis katalitik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—