Target sputtering Nickel (Ni) merupakan material sumber padat berbahan logam yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom nikel terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis logam. Nikel adalah logam transisi, dan target ini termasuk dalam golongan target sputtering logam yang banyak digunakan dalam riset lapisan tipis dan proses pelapisan industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis nikel untuk riset perangkat magnetik dan spintronik
- Lapisan seed dan adhesi dalam pengembangan mikroelektronika dan sirkuit lapisan tipis
- Pembuatan lapisan elektroda dan kontak dalam pembuatan prototipe perangkat skala laboratorium
- Lapisan pelindung dan fungsional logam yang dipelajari dalam ilmu material
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—