Target sputtering nikel (nickel sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,99%, ukuran 2'' dan ketebalan 0,250''. Produk disediakan per satu buah dan digunakan untuk deposisi lapisan tipis nikel dengan metode sputtering pada substrat berbagai bentuk dan ukuran.
Sputtering merupakan teknik deposisi yang sudah teruji dan memberikan hasil yang dapat diulang. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, dan juga dapat disesuaikan untuk batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
Selain deposisi, target sputtering juga dipakai untuk etsa sputter (sputter etching) yang membutuhkan anisotropi tinggi, serta untuk analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS).
- Deposisi lapisan tipis nikel pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk pendeteksian pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering) yang mengubah sifat benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,99% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI08
- Material: Nikel (Ni)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01NI08
—
—