Target sputtering nikel (Ni) merupakan sumber logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Nikel adalah logam transisi yang banyak dipelajari karena sifat magnetik, katalitiknya, dan ketahanannya terhadap korosi, dan produk ini termasuk dalam kelompok target sputtering logam dalam rentang nanomaterial Nanografi. Target umumnya direkatkan pada backing plate dan dipilih sesuai sistem deposisi serta tujuan riset.
- Jumlah: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis logam untuk riset perangkat elektronik dan magnetik
- Pengembangan lapisan dasar (seed) dan lapisan adhesi dalam studi pelapisan tipis
- Persiapan lapisan katalis untuk eksperimen kimia permukaan
- Riset lapisan pelindung dan lapisan fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—