Target sputtering nikel (nickel sputtering target) dari Nanografi ini berbentuk cakram berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,995%. Target ini menjadi sumber material pada sistem deposisi sputter, di mana atom dikikis dari permukaan target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang telah teruji untuk melapisi substrat dengan berbagai bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten, cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil, serta dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter memang membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis nikel pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis material melalui sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari riset dan pengembangan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,995% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI12
- Material: Nikel (Ni)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—