Target sputtering nikel (Ni) adalah sumber logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, permukaan target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom terlepas dan mengendap pada substrat sebagai lapisan tipis. Sebagai logam transisi, nikel banyak dipelajari karena ketahanan korosi, perilaku katalitik, dan sifat magnetiknya, sehingga targetnya menjadi pilihan umum dalam riset lapisan tipis dan pengembangan pelapisan.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis nikel untuk riset perangkat elektronik dan mikroelektronik
- Lapisan tipis magnetik untuk studi penyimpanan data dan spintronik
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada substrat logam maupun kaca
- Lapisan dasar atau lapisan perekat dalam tumpukan lapisan tipis multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—