Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel (Ni) Sputtering Targets

Nickel (Ni) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 10.060.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 10.060.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering nikel (Ni) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Di bawah pengeboman ion, atom nikel dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Nikel adalah logam transisi yang dihargai karena sifat magnetik, katalitik, dan ketahanan korosinya, dan target ini termasuk dalam rangkaian deposisi lapisan tipis dari Nanografi.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis magnetik untuk riset media perekam dan spintronik
  • Lapisan pelindung dan anti-korosi pada substrat logam maupun kaca
  • Lapisan seed dan adhesi dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
  • Studi lapisan tipis katalitik dan eksperimen ilmu permukaan

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—