Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel (Ni) Sputtering Targets

Nickel (Ni) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 9.595.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 9.595.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Nickel (Ni) adalah lempeng sumber padat yang terbuat dari logam transisi nikel. Target ini digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), terutama magnetron sputtering, untuk mendeposisikan lapisan tipis nikel atau berbasis nikel pada substrat. Nikel merupakan material logam, dan produk ini termasuk dalam golongan target sputtering logam dalam rangkaian Nanografi.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis untuk riset perangkat elektronik dan semikonduktor
  • Pembuatan lapisan magnetik untuk studi penyimpanan data dan sensor
  • Pengembangan lapisan logam pelindung dan fungsional
  • Riset permukaan dan antarmuka pada ilmu material lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—